2021年8月31日（火）13：00～17：00（オンライン開催）

第172回ラドテック研究会講演会

期　　日：2021年8月31日（火）13：00～17：00
開催形式：オンライン（ZOOMウェビナー）による講演

＜プログラム＞※プログラムは変更になる場合がございます。（敬称略）
１）13：00～13：50
「レーザー加工孔版印刷を組込んだ光ナノインプリントリソグラフィ」
　　東北大学　中川　勝
有型成形した光硬化樹脂パターンをレジストマスクに用いて下地基板を加工するには、所定領域での成形、パターン密度の粗密対応、残膜厚の均一化と薄膜化、異方的な残膜除去が重要となる。本講演では、上記を可能にする、筆者らが開発を進めているレーザー加工孔版印刷を組込んだ光ナノインプリントリソグラフィ法の材料とプロセスの現状を紹介する。

２）14：00～14：50
「フォトポリマーの重合時交差拡散を利用したオンデマンドのマイクロ流路デバイス作製技術」
　　徳島大学　江本　顕雄
現在、種々の分析や検査において、微量の検体を系統的に処理できるマイクロ流路デバイスは必須のツールとなっている。通常は流路の反転構造を有する型(モールド)やマスクが必要となる。また更にウェットプロセスを必要とする場合もある。従って、試作品であってもオンデマンドの製造は難しい。本研究では、フォトポリマーを部分露光した際に生じる交差拡散を利用したオンデマンドのマイクロ流路デバイス作製技術を提案する。

＜14：50～15：10 休憩・ミニ展示動画＞

３）15：10～16：00
「ニュースバルにおけるEUVリソグラフィー技術とその最新動向」
　　兵庫県立大学　渡邊　健夫
兵庫県立大学ニュースバル放射光施設は1996年よりEUVリソグラフィー(EUVL)の基盤技術開発に取り組んで来た。EUVLは半導体量産技術に2019に適用開始、2020年からは本格適用が開始された。未だ、多くの課題が残っており、現在これらの課題解決に向けた研究に取り組んでいる。また、EUVLの今後の動向について紹介し、次世代のBeyond EUVLについても言及する。

４）16：10～17：00
「UVインキの基礎技術とLED化への対応について」
　　東洋インキSCホールディングス株式会社　末永　隼也
前半はＵＶ硬化型インキの市場動向、インキの一般組成、材料特長、用途について述べる。後半は環境面から需要が高まっているＬＥＤ―ＵＶシステムの市場、対応するインキの開発動向、課題について述べる。

終了いたしました。