第109回ラドテック研究会講演会

期 日:2008年9月11日(木)13:00〜16:30
場 所:学士会館本館(神田)210号室
千代田区神田錦町3−28/TEL 03-3292-5931


<講師と演題>
1) 13:00 〜 13:45 
「ナノインプリント技術の現状と今後の応用展開」
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所    松井 真二 氏

2) 13:45 〜 14:30
「色素増感太陽電池〜実用化へ向けた研究開発動向〜」
産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター   原 浩二郎  氏

14:30 〜 14:45 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

3) 14:45 〜 15:30
「CNTを用いた導電性薄膜の形成」
三菱レイヨン梶@横浜技術研究所   齋藤 隆司  氏

4) 15:30 〜 16:15
「高耐熱性かつ高透明性を持つフォトポリマー「アデカナノハイブリッドシリコーン」 〜フラットパネルディスプレイや光導波路等への応用について〜」
鰍`DEKA 先端材料開発研究所 新機能材料研究室    斎藤 誠一  氏

◇16:30〜17:00  第26回総会
◆17:00〜19:00  懇親会(320号室)




第25回UV/EB表面加工入門講座(東京)


期 日:2008年7月17日(木)9:30〜16:40
会 場:飯田橋レインボーホール 大会議室
新宿区市谷船河原町11  TEL 03-3260-4791

<講師と演題>
1) 9:30〜10:20 「UV/EB硬化技術入門」
大阪府立大学 角岡 正弘 氏

2) 10:20〜11:10 「UV/EB硬化モノマーおよびオリゴマー」
東亞合成 佐内 康之 氏

3) 11:10〜12:00 「光重合開始剤」
チバ・ジャパン 古濱  亮 氏

12:00〜13:00 *****  昼 食  *****

4) 13:00〜13:50 「UV硬化装置とその応用」
岩崎電気 木下  忍 氏

5) 13:50〜14:40 「EB硬化装置の現状と展望」
早稲田大学 鷲尾 方一 氏

14:40〜15:00 ♪♪♪♪♪  コーヒーブレイク  ♪♪♪♪♪

6) 15:00〜15:50 「オプトエレクトロニクス材料」
JSR 田辺 隆喜 氏

7) 15:50〜16:40 「UV/EB硬化インキ」
DIC 延藤 浩一 氏




第24回UV/EB表面加工入門講座(大阪)

期 日:2008年7月3日(木)9:30〜16:40
会 場:大阪科学技術センター 中ホール
大阪市西区靭本町1-8-4 TEL 06-6443-5324

<講師と演題>
1) 9:30〜10:20 「UV/EB硬化技術入門」
大阪府立大学 角岡 正弘 氏

2) 10:20〜11:10 「UV/EB硬化モノマーおよびオリゴマー」
荒川化学工業 澤田  浩 氏

3) 11:10〜12:00 「光重合開始剤」
チバ・ジャパン 倉  久稔 氏

12:00〜13:00 *****  昼 食  *****

4) 13:00〜13:50 「UV硬化装置とその応用」
潟Wーエス・ユアサ ライティング 麻田 隆志 氏

5) 13:50〜14:40 「EB硬化装置の現状と展望」
鰍mHVコーポレーション 岡崎 泰三 氏

14:40〜15:00 ♪♪♪♪♪  コーヒーブレイク  ♪♪♪♪♪

6) 15:00〜15:50 「オプトエレクトロニクス接着剤」
ナガセケムテックス 飯田 隆文 氏

7) 15:50〜16:40 「UV/EB硬化インキ」
東洋インキ製造 楢原 暁子 氏



第108回ラドテック研究会講演会

期 日:2008年6月5日(木)13:00〜17:00
場 所:大阪科学技術センター 401号室
大阪市西区靭本町1-8-4 TEL 06-6443-5324


<講師と演題>
1) 13:00 〜 13:45 
「UV硬化型ジェットインク材料」
千葉大学 大学院 小関 健一 氏

2) 13:45 〜 14:30 
「後硬化・後剥離技術による粘着剤の接合力制御」
積水化学工業 福井 弘司 氏

3) 14:30 〜 15:15 
「高性能カラーフィルターの技術動向と樹脂材料」
大日本印刷 角野 友信 氏

15:15 〜 15:30  ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

4) 15:30 〜 16:15
「可視光硬化型ホログラム記録材料」
ダイソー 植田 秀昭 氏

5) 16:15 〜 17:00 
「光学、電子部品用含イオウUV硬化接着剤」
電気化学工業 渡辺 淳 氏


第107回ラドテック研究会講演会

期 日:2008年4月11日(金)13:00〜17:00
場 所:学士会館本館(神田)210号室
千代田区神田錦町3−28/TEL 03-3292-5931


<講師と演題>
1) 13:00〜13:45
『光で動く高分子−三次元光運動材料−』
東京工業大学 池田 富樹 氏

2) 13:45〜14:30
『放射線硬化技術の進展と日本市場における工業的活用』
JSR 宇加地 孝志 氏

3) 14:30〜15:15
『特異な分解反応を利用するアクリル系紫外線硬化樹脂の構造キャラクタリゼーション』
名古屋工業大学 大谷  肇 氏

15:15〜15:30 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

4) 15:30〜16:15
『反応現像画像形成を用いたエンプラの感光性ポリマーへの変換』
横浜国立大学 大山 俊幸 氏

5) 16:15〜17:00
『レーザープラズマによるEUVリソグラフィー光源の現状と展望』
ギガフォトン株式会社 遠藤  彰 氏


第106回ラドテック研究会講演会

期 日:2008年2月22日(金)13:00〜17:00
場 所:学士会館本館(神田)210号室
千代田区神田錦町3−28/TEL 03-3292-5931


<講師と演題>
1) 13:00〜13:40
『有機金属重縮合法によるパイ共役ポリマーの合成と分子集積・機能』
東京工業大学 山本 隆一 氏

2) 13:40〜14:20
『感光性オプティカルウェブガイド・フィルム(仮題)』
日立化成工業 高橋 敦之氏

3) 14:20〜15:00
『紫外線硬化性粘着材(DuPont TMT)のフラットパネルディスプレイ電極形成への応用(仮題)』
デュポン 佐藤 敦彦 氏

15:00〜15:20 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

4) 15:20〜16:00
『UVインクジェット技術』
コニカミノルタIJ 西 眞一 氏

5) 16:00〜16:40
『直流電源UVランプの特長と硬化膜への影響(仮題)』
フュージョンUVシステムズ・ジャパン梶@河村 紀代子 氏


第105回ラドテック研究会講演会

期 日:2007年11月8日(木)13:00〜17:00
場 所:学士会館本館(神田)210号室
千代田区神田錦町3−28/TEL 03-3292-5931


<講師と演題>

1) 13:00〜13:40
『水中ナノ分散結晶の光物理化学とフォトポリマーへの応用』
東邦大学 市村 國宏 氏

2) 13:40〜14:20
『フレキシブルフィルム液晶ディスプレイの作製技術』
NHK放送技術研究所 藤掛 英夫 氏

3) 14:20〜15:00
『光ラビング:光配向法実用化のための新プロセスの開発
<仮題>』
JSR 木村 雅之 氏

15:00〜15:20 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

4) 15:20〜16:00
『低エネルギーEBによる無機材料および複合材料の強度アップ』 東海大学 西  義武 氏

5) 16:00〜16:40
『ラドテックアジア2007 参加報告』
東京工業大学 上田  充 氏


行事TOPへもどる       ホームへもどる