講演会

講演会Lecture Cource

2016年8月～2017年7月　プログラム　　※会員外の方はこちらをクリック

「第152回講演会」2017年6月16日（金）13：00～16：40　
会場：大阪産業技術研究所森ノ宮センター／大講堂

＜講師と演題＞
１） 13：00～13：50
「ポリイミド膜表面の露光部選択的修飾」
久留米高等専門学校　津田　祐輔　氏
側鎖に各種の光反応性基を導入したポリイミドを新規に合成した。得られたポリイミド薄膜に紫外線照射を行うと露光部が撥水性から親水性に選択的に変化することが判明し、プリンテッドエレクトロニクスへの応用が期待される。また、フォトクロミック化合物の導入で可逆的濡れ性変化が可能となることが判明した。

２） 13：50～14：40
「磨砕応答色素を用いたコンポジット薄膜の作製と機能発現」
兵庫県立大学大学院　近藤　瑞穂　氏
磨砕応答色素は延伸やすりつぶすといった機械的刺激により等温的に発光色が変化する。本発表では色素を高分子に分散し、加工性を向上させるとともに薄膜化による新たな機能の発現について報告する。

14：40　～　15：00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

３) 15：00～15：50
「新規光重合開始剤の開発」
日本合成化学工業株式会社　青木　康浩　氏
ラジカルUV硬化で問題となっている酸素阻害を改善するために、新規な光重合開始剤の開発を行った。その結果、光重合開始剤から発生するチイルラジカルまたはチオールを利用する事で酸素阻害が低減され、硬化収縮が抑えられることが解った。

４) 15：50～16：40
「ポリグリセリン骨格を有する多官能アクリレートモノマーの特性」
阪本薬品工業株式会社　　　名田　智美　氏
当社では、ポリグリセリンを主骨格とし、柔軟な構造を有する多官能アクリレートモノマーを開発し、速硬化性、低カール性等の特長を見出している。今回の講演では、分子量の異なる2種のポリグリセリン系アクリレートについて紹介する。

「第151回講演会」2017年4月27日(木)13：00～17：00　
会場：東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階

第151回講演会は下記のプログラムに決定しました。この講演会が、皆さんの研究開発にお役に立てれば幸いです。

＜講師と演題＞
１） 13：00～13：50
「樹脂界面の接着と残留応力」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　神戸大学大学院西野　孝氏
　樹脂を硬化させると収縮し，そこに接着が介在すると被着体との界面に応力が残留する。コーティング，ラミネート，接着，素子封止などにおいて残留応力は製品信頼性を妨げる大きな要因となっている。本講演では，残留応力の非破壊検出と低減化の事例を具体的に紹介する。

２） 13：50～14：40
「光重合を用いた多成分系ポリマーブレンドの相分離制御：現状と展望」　　　　　　京都工芸繊維大学宮田貴章氏
　重合を含む反応性のポリマーブレンドは材料科学の様々な分野において広く利用されている。特定の条件下で実験を行う場合、反応性ポリマーブレンドは相反する相互作用の競合効果を示す典型的系であり、様々なモルフォロジーが発現する。ここで、この競合過程における二成分や三成分系ポリマーブレンドの相分離で形成された特異的なモルフォロジーとその利用について紹介する。

14：40 ～ 15：00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

３) 15：00～15：50
「NIR（近赤外光）に感光する開始剤とこれを用いたフォトポリマーへの応用」　サンアプロ株式会社白石　篤志氏
　近年フォトポリマーに用いられる材料の多様化に伴い、要求される波長も極端紫外光領域から可視光領域へと多様化してきている。我々は、さらに長い近赤外光領域（NIR）に着目した。今回このNIR（近赤外光）に感光する開始剤とフォトポリマーへの応用について紹介する。

４) 15：50～16：40
「日本のUV/EB技術と市場の概観」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ＪＳＲ株式会社小宮　全氏
　ラドテック研究会では2016年10月に開催されたRadtech Asia 2016を機会に、ラドテック研究会メンバーに対してアンケートを募り、日本のUV/EB技術と市場動向について調査を行いました。その結果をご紹介します。

◆17：00～18：30 　交流会・ミニ展示会　大会議室にて（会費　1,000円）

「第150回講演会」2017年1月31日(火)13：00～17：00　
会場：東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階

第150回講演会は下記のプログラムに決定しました。この講演会が、皆さんの研究開発にお役に立てれば幸いです。

＜講師と演題＞
１） 13：00～13：50
「ライトメルト接着材料の開発〜光剥離と耐熱接着の両立〜」　　　　　　　　　　　京都大学大学院齊藤尚平氏
　部材の仮固定に頻用されるホットメルト接着材料は、高温では接着力を失ってしまうため使用に制約がある。今回、「光で剥がれる機能」と「高温でも接着力を維持する機能」を両立する液晶材料を開発し、「ライトメルト接着材料」と名付けた。

２） 13：50～14：40
「光反応を利用した刺激応答性ポリマーの設計」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　関西大学宮田隆志氏
　外部刺激に応答して構造変化する刺激応答性ポリマーは医療や環境，エネルギー分野への応用が期待されている。われわれは動的架橋構造を導入することにより様々な刺激応答性ポリマーを設計し，幅広い分野への応用を目指してきた。本講演では，光重合や光架橋を用いた新規な刺激応答性ポリマーの設計とその多岐にわたる応用例を紹介する。

14：40 ～ 15：00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

３) 15：00～15：50
「UV硬化に次いで市場で広がっている新規UV表面処理技術」　　　　　　　　　　セン特殊光源株式会社菊池清氏
　2016年のラドテック･アジアの主題は、“新規UV/EB技術によるイノベーションへの挑戦”であった。そのUV技術の主役は硬化技術である。しかしUVが持つポテンシャルは高く、新規分野は広い。現在、UV表面処理技術が液晶TVやHDDなどの分野において、硬化以外の作用で成果を挙げている。その現状と今後の展望を紹介する。

４) 15：50～16：40
「省エネUVシステムの変遷と印刷物」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　東洋インキ株式会社沖野雄一氏
　Drupa2008で発表されたLED硬化システムを皮切りに、商業印刷を中心に“油性からUV”へと移り変わっている。特化した印刷物を見ながら、それまでパッケージ主体であったUVシステム変遷をインキを中心に紹介する。

◆17：00～18：30 　賀詞交歓会・ミニ展示会　大会議室にて

「第149回講演会」2016年11月22日(火)13：00～17：00　
会場：東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階

第149回講演会は下記のプログラムに決定しました。この講演会が、皆さんの研究開発にお役に立てれば幸いです。

１） 13：00～13：50
「量子ビーム技術による高分子材料の微細加工研究～半導体リソグラフィからバイオデバイスまで～」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構大山　智子　氏
　量子ビームは高分解能で材料の形状と化学的・物理的性質の両方を加工できる最先端のツールである。次世代半導体製造技術や、再生医療実現に向けたバイオデバイス開発など、量子ビームの最先端応用を紹介する。

２） 13：50～14：40
「精密重合の切り口で見たUV硬化の新展開: 傾斜ナノ構造の同時形成」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　早稲田大学須賀　健雄　氏
　迅速な汎用UV硬化反応に敢えて「光駆動型」の精密ラジカル重合機構を組み込み、時間軸を制御することで、硬化と同時に類例のない傾斜ナノ構造の形成を見出した。光重合の精密制御が拓く新素材の創出について紹介する。

14：40　～　15：00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

３) 15：00～15：50
「遮蔽部硬化性に優れたＵＶ硬化樹脂」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　三洋化成工業株式会社酒井　　優　氏
　当社独自の開始剤システムを利用し、ラジカル重合型紫外線硬化樹脂原料でありながら、紫外線があたらない箇所まで硬化することを可能にした新規紫外線硬化樹脂原料について紹介する。
本樹脂原料は、種々のラジカル重合型モノマー、オリゴマーと併用可能であり、さまざまなニーズに対応することができるものである。

４) 15：50～16：40
「ハードコート用UV硬化樹脂の特長と応用展開」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　大成ファインケミカル株式会社朝田　泰広　氏
　本講演では、アクリル当量及び分子量をふったＵＶ硬化アクリル樹脂の塗膜性能について光学フィルム向け及び加飾フィルム向けを中心に検討した例を紹介する。ＵＶ硬化アクリル樹脂は、硬化収縮が極めて低く薄膜基材において低カール化が実現できアクリル当量が高い設定では高伸度が確認できた。

◆17：00～18：30　交流会・ミニ展示会　大会議室にて（会費　1,000円）　

「第148回講演会」2016年9月7日(水)13：00～17：00　
会場：東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階

第148回講演会は下記のプログラムに決定しました。この講演会が、皆さんの研究開発にお役に立てれば幸いです。

１） 13：00～13：50「陽電子消滅測定手法を用いた高分子材料研究」日本原子力研究開発機構　平出　哲也　氏

２） 13：50～14：40「高分子材料と金属錯体とのハイブリッド化による発光機能の制御」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　地方独立行政法人大阪市立工業研究所渡瀬　星児　氏

　　14：40　～　15：00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

３) 15：00～15：50「機能性材料付与UV硬化材料の紹介」第一工業製薬（株）大西　敏之　氏

４) 15：50～16：40「可視光硬化型歯科材料」山本貴金属地金株式会社　加藤　喬大　氏

◆17：00～18：30　交流会　大会議室にて（会費　1,000円）　