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講演会について
UV/EB利用による基礎/応用研究、及び照射技術等について各分野を代表する大学及び民間の3-5名の先生方にご講演頂きます。その内容は物質創製、物性評価、表面改質、照射技術など多岐にわたり、年間6回(東京5回、大阪1回)開催されます。
ラドテック研究会では、ご参加頂いた皆さまのご意見を迅速に講演会に反映させ、会員ための研究会になるよう努めております。今後はUV/EBだけでなく、イオンビームやX線を利用した研究テーマもご紹介して参ります。
<参加者の声>
・ 現在の研究内容とは異なるテーマであったが、興味深く聴かせて頂きました。
・ 良かったと思う。特に第2部の2つの講演「アゾベンゼン含有ポリマーの光架橋と光学的応用」「芳香族ポリアミドからなる新しい液晶光配向膜」は大いに参考になった。
・ あまり専門的過ぎて理解不能でした。時間の制約も問題なのでは？例えば、納豆樹脂の講演は、応用開発ではなく、開発までを詳しく聞きたかった。
・ 広範囲にわたるテーマでの講演であり、興味を持って聴講できた。
第122回ラドテック研究会講演会
期 日：2011年4月13日（水）13：00～17：00
場 所：学士会館本館（神田）210号室
千代田区神田錦町3－28
＜お問い合わせ先＞ ラドテック研究会 TEL：03-3360-0135
＜講師と演題＞
１） 13：00～13：50
「フォトレジスト開発の現状と今後」
東京応化工業㈱ 内海 義之 氏
２） 13：50～14：40
「レジスト反応機構と11nmノードに向けた将来展望」
大阪大学産業科学研究所 古澤 孝弘 氏
14：30 ～ 14：50 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
３) 15：00～15：50
「フレキシブル有機薄膜太陽電池の開発と今後の展開」
三菱化学㈱ 山岡 弘明 氏
４) 15：50～16：40
「太陽電池のフレキシブル化技術、モジュール化技術と周辺材料」
独立行政法人産業技術総合研究所 増田 淳 氏
以上
第121回講演会プログラム
期 日：2011年2月23日（水）13：00～17：00
場 所：学士会館本館（神田）210号室
千代田区神田錦町3－28
＜お問い合わせ先＞ ラドテック研究会 TEL：03-3360-0135
【講師と演題】
１）13：00～13：45
「リターダグラフィ（Retardagraphy)－ユニークな位相情報記録技術（仮題）」
産業総合技術研究所 福田 隆史 氏
２）13：45～14：30
「ナノインプリント用樹脂製モールドの開発」
綜研化学㈱ 三澤 毅秀 氏
14：30 ～ 14：50 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
３)14：50～15：35
「LB膜中での光反応とパターン形成」
東京理科大学 松本 睦良 氏
４)15：35～16：20
「分子勾配膜を用いた粘着テープの開発」
共同技研化学㈱ 濱野 尚吉 氏
５)16：20～16：50
「RadTech North America 2010 見聞録」
大阪市立工業研究所 松川 公洋 氏
以上
第120回ラドテック研究会講演会
期 日：2010年11月20日（金）13：00～17：00
場 所：学士会館本館（神田）210号室
千代田区神田錦町3－28
＜講師と演題＞
１） 13：00～13：50
「光解重合性ポリオレフィンスルフォン」
東京理科大学 佐々木健夫 氏
２） 13：50～14：40
「UV-CIPG(紫外線硬化型現場成形ガスケット)」
株式会社スリーボンド 有田 奈央 氏
14：40 ～ 15：00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
３) 15：00～15：50
「EUV領域の放電光源開発」
東京工業大学 堀田 栄喜 氏
４) 15：50～16：40
「フォトレジスト材料の評価」
リソテックジャパン株式会社 関口 淳 氏